華為發表「韜定律」對抗摩爾定律!不用 EUV 光刻機,目標 2031 年達 1.4nm 等效製程
華為半導體業務部總裁何庭波今日在上海 IEEE ISCAS 2026 上發表「韜定律」,以時間縮微取代幾何縮微 … 閱讀全文 華為發表「韜定律」對抗摩爾定律!不用 EUV 光刻機,目標 2031 年達 1.4nm 等效製程
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